企业简介
无锡宏纳科技有限公司 main business:微机电系统技术、光电子技术及产品的研发、销售、技术服务；自营和代理各类商品及技术的进出口业务（国家限定公司经营或禁止进出口的商品和技术除外）。（依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动） and other products. Company respected "practical, hard work, responsibility" spirit of enterprise, and to integrity, win-win, creating business ideas, to create a good business environment, with a new management model, perfect technology, attentive service, excellent quality of basic survival, we always adhere to customer first intentions to serve customers, persist in using their services to impress clients.
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无锡宏纳科技有限公司的工商信息
- 320213000188531
- 9132021406459045X1
- 在业
- 有限责任公司
- 2013年04月03日
- 吕耀安
- 2000万元人民币
- 2013年04月03日 至 永久
- 无锡市新吴区市场监督管理局
- 2016年08月08日
- 无锡新区清源路20号太湖国际科技园传感网大学科技园立业楼D区一楼
- 微机电系统技术、光电子技术及产品的研发、销售、技术服务；自营和代理各类商品及技术的进出口业务（国家限定公司经营或禁止进出口的商品和技术除外）。（依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动）
无锡宏纳科技有限公司的域名
| 类型 | 名称 | 网址 |
| 网站 | 无锡宏纳科技有限公司 | http://www.hi-nano.com.cn |
| 网站 | 无锡宏纳科技有限公司 |
无锡宏纳科技有限公司的专利信息
| 序号 | 公布号 | 发明名称 | 公布日期 | 摘要 |
| 1 | CN106245004A | 内外喷气式低压化学气相沉淀腔 | 2016.12.21 | 本发明涉及一种内外喷气式低压化学气相沉淀腔，包括腔体，所述腔体中内置有导气结构及用于支撑晶圆的支撑结 |
| 2 | CN106051652A | 光器件用弧形卡位状热沉 | 2016.10.26 | 本发明公开了一种光器件用弧形卡位状热沉，包括多个最小单位热沉；每个最小单位热沉包括基板，基板的正面为 |
| 3 | CN106154414A | 一种带有边缘通道的新型阵列波导光栅及其平坦化方法 | 2016.11.23 | 本发明公开一种带有边缘通道的新型阵列波导光栅及其平坦化方法，其阵列波导光栅，包括：阵列波导光栅核心组 |
| 4 | CN106206376A | 集成电路制造用多平台工作台 | 2016.12.07 | 本发明公开了一种集成电路制造用多平台工作台，包括主旋转轴；所述主旋转轴之上固定有主旋转圆盘；所述主旋 |
| 5 | CN106019461A | 制造六边形通道的硅光导管的方法 | 2016.10.12 | 本发明公开了一种制造六边形通道的硅光导管，包括以下步骤：在硅基衬底之上外延第一硅氧化物层；在硅基衬底 |
| 6 | CN105954981A | 可提高光刻精度的遮罩 | 2016.09.21 | 本发明公开了一种可提高光刻精度的遮罩，包括透镜组；深紫外光经由透镜组射出；透镜组的光射出方向固定有光 |
| 7 | CN105954829A | 六边形通道的硅光导管 | 2016.09.21 | 本发明公开了一种六边形通道的硅光导管，包括硅基衬底；所述硅基衬底之上外延有第一硅氧化物层；所述第一硅 |
| 8 | CN106057698A | 在芯片制造过程中跳过晶圆破裂处的方法 | 2016.10.26 | 本发明公开了一种在芯片制造过程中跳过晶圆破裂处的方法，将晶圆分割为多个间距相等的测量等分，作为测量坐 |
| 9 | CN105957902A | 电容数值更大的深沟槽硅电容的制作方法 | 2016.09.21 | 本发明公开了一种电容数值更大的深沟槽硅电容的制作方法，包括以下步骤：在硅衬底上表面生长一层第一硅氧化 |
| 10 | CN106128930A | 等离子体刻蚀炉 | 2016.11.16 | 本发明公开了一种等离子体刻蚀炉，包括圆柱状的炉体；所述炉体的一端的上侧开放有气体进入通道；所述炉体下 |
| 11 | CN105903703A | 使用带有红外定位装置的双棉签清洁器进行清洁的方法 | 2016.08.31 | 本发明公开了一种使用带有红外定位装置的双棉签清洁器进行清洁的方法，包括：当红外接收器接收到红外发射器 |
| 12 | CN106051653A | 光器件用锯齿接口状热沉 | 2016.10.26 | 本发明公开了一种光器件用锯齿接口状热沉，包括多个最小单位热沉；每个最小单位热沉包括基板，基板的正面为 |
| 13 | CN106180025A | 双棉签光纤头清洁器 | 2016.12.07 | 本发明公开了一种双棉签光纤头清洁器，包括支架，支架之上安装有固定夹具；所述固定夹具上夹持有光纤头；还 |
| 14 | CN106197947A | 使用光纤内线缆打标机进行光纤测试的方法 | 2016.12.07 | 本发明公开了一种使用光纤内线缆打标机进行光纤测试的方法，包括以下步骤：步骤1、将光纤固定；步骤2、控 |
| 15 | CN106076909A | 使用带有红外定位装置的单棉签头清洁器进行清洁的方法 | 2016.11.09 | 一种使用带有红外定位装置的单棉签头清洁器进行清洁的方法，包括：当第一红外线接收器接收到红外线发射器发 |
| 16 | CN106121292A | 一种风扇排布整齐的超净间 | 2016.11.16 | 本发明公开了一种风扇排布整齐的超净间，包括设置于超净间前端的入风端、设置于超净间后端的出风端和设置于 |
| 17 | CN106079123A | 一种可保护刀刃的晶圆切割刀 | 2016.11.09 | 本发明公开了一种可保护刀刃的晶圆切割刀，包括工作台，工作台上设置有保护层，晶圆放置在所述保护层之上； |
| 18 | CN205341179U | 一种光刻胶喷头的自动清洗装置 | 2016.06.29 | 本实用新型公开了一种光刻胶喷头的自动清洗装置；其包括清洗箱，所述清洗箱上部设置有清洗槽，所述清洗槽底 |
| 19 | CN106252262A | 晶圆的喷淋结构 | 2016.12.21 | 本发明涉及一种晶圆的喷淋结构，包括固定安装于机架上的晶圆支撑台及位于晶圆支撑台上方的喷淋头安装板，所 |
| 20 | CN106245111A | 低压化学气相沉淀腔的晶圆支撑结构 | 2016.12.21 | 本发明涉及一种低压化学气相沉淀腔的晶圆支撑结构，所述支撑结构包括一支撑管，所述支撑管轴向设置于所述环 |
| 21 | CN106252270A | 一种可自动拾取芯片的夹具 | 2016.12.21 | 本发明公开了一种可自动拾取芯片的夹具，包括悬挂杆；所述悬挂杆的两端固定有第一定位块和第二定位块；还包 |
| 22 | CN106226562A | 弹簧下压型芯片测试夹具 | 2016.12.14 | 本发明公开了一种弹簧下压型芯片测试夹具，包括支架，所述支架包括带有水平面的基台和竖直状的支撑杆；所述 |
| 23 | CN106199842A | 固定式FC光纤头夹持器 | 2016.12.07 | 本发明公开了一种固定式FC光纤头夹持器，包括基座，所述基座的上表面设置有轨道和半圆缺口；所述轨道设置 |
| 24 | CN206133076U | 一种PLC分路器芯片封装结构 | 2017.04.26 | 本实用新型公开一种PLC分路器芯片封装结构，包括PLC分路器芯片组、输入光纤阵列及输出光纤阵列；所述 |
| 25 | CN106424060A | 集成电路生产车间除尘系统 | 2017.02.22 | 本发明涉及一种集成电路生产车间除尘系统，该系统包括装置于车间中的除尘器、灰尘传感器及控制所述除尘器的 |
| 26 | CN106419739A | 集成电路生产车间用低位通风除尘装置 | 2017.02.22 | 本发明涉及一种集成电路生产车间用低位通风除尘装置，包括底支撑板及顶支撑板，所述底支撑板与顶支撑板之间 |
| 27 | CN106428923A | 晶圆储存箱 | 2017.02.22 | 本发明涉及一种晶圆储存箱，包括间隔放置于箱体中的多个储存筒，箱体中设置有多根套轴，所述储存桶套设于所 |
| 28 | CN106449511A | 带有多个卡位装置的晶圆夹持装置 | 2017.02.22 | 本发明公开了一种带有多个卡位装置的晶圆夹持装置，包括主体板；所述主体板的边缘设置有多个等间距的凹槽； |
| 29 | CN106449475A | 晶圆片的导入结构 | 2017.02.22 | 本发明涉及一种晶圆片的导入结构，包括设置于清洗腔中的多个清洗槽，所述清洗槽成排设置，相邻排的清洗槽之 |
| 30 | CN106449478A | 晶圆片的清洗装置 | 2017.02.22 | 本发明涉及一种晶圆片的清洗装置，包括带状清洗槽、安装于所述清洗槽两侧的多根清洗管及安装于清洗槽底部的 |
| 31 | CN106423646A | 带实时高度调节的晶圆喷淋头结构 | 2017.02.22 | 本发明涉及一种带实时高度调节的晶圆喷淋头结构，包括固定安装于喷淋头安装板上的竖向气缸，所述竖向气缸的 |
| 32 | CN106449410A | 增强型栅极衬底凸出的N型MOS管的制造方法 | 2017.02.22 | 本发明公开了一种增强型栅极衬底凸出的N型MOS管的制造方法，包括以下步骤：在晶圆上之上进行硼离子注入 |
| 33 | CN106449476A | 晶圆片边缘处理装置的清洗槽结构 | 2017.02.22 | 本发明涉及一种晶圆片边缘处理装置的清洗槽结构，多个清洗槽布置于清洗腔中，所述清洗槽对应位于清洗池中的 |
| 34 | CN106424018A | 集成电路生产车间用悬吊式除尘管 | 2017.02.22 | 本发明涉及一种集成电路生产车间用悬吊式除尘管，该悬吊式除尘管安装于车间中操作台的正上方，所述悬吊式除 |
| 35 | CN106419735A | 集成电路生产车间用地面抽尘装置 | 2017.02.22 | 本发明涉及一种集成电路生产车间用地面抽尘装置，包括通过纵横梁支撑的抽吸板，所述抽吸板上均布有微抽吸孔 |
| 36 | CN106449474A | 晶圆片边缘清洗处理装置 | 2017.02.22 | 本发明涉及一种晶圆片边缘清洗处理装置，包括箱体，箱体中具有弧形状的储液通道及分别位于储液通道上、下方 |
| 37 | CN106449477A | 晶圆片的清洗烘干系统 | 2017.02.22 | 本发明涉及一种晶圆片的清洗烘干系统，包括带状清洗槽、安装于所述清洗槽两侧的多根清洗管及安装于清洗槽底 |
| 38 | CN106449494A | 晶圆专用储存架 | 2017.02.22 | 本发明涉及一种晶圆专用储存架，包括顶横梁、底横梁及安装于所述顶横梁与底横梁之间的多个支撑框，所述支撑 |
| 39 | CN106399971A | 导气支撑一体式低压化学气相沉淀腔 | 2017.02.15 | 本发明涉及一种导气支撑一体式低压化学气相沉淀腔，包括腔体，所述腔体中内置有导气结构及用于支撑晶圆的支 |
| 40 | CN106399974A | 常压化学气相淀积反应腔 | 2017.02.15 | 本发明涉及一种常压化学气相淀积反应腔，包括腔体，所述腔体中内置有导气管及用于支撑晶圆的支撑座，所述腔 |
| 41 | CN106399970A | 环管式低压化学气相沉淀腔 | 2017.02.15 | 本发明涉及一种环管式低压化学气相沉淀腔，包括腔体，所述腔体中内置有导气结构及用于支撑晶圆的支撑结构， |
| 42 | CN106393015A | 用于集成电路生产的操作台 | 2017.02.15 | 本发明涉及一种用于集成电路生产的操作台，包括台面及支撑脚，所述操作台的下方的车间地面埋设有通风道，所 |
| 43 | CN106399972A | 低压化学气相沉淀腔 | 2017.02.15 | 本发明涉及一种低压化学气相沉淀腔，包括腔体，所述腔体中内置有导气管及支撑架，所述导气管包括进气主管及 |
| 44 | CN106391636A | 集成电路生产车间用低位除尘控制系统 | 2017.02.15 | 本发明涉及一种集成电路生产车间用低位除尘控制系统，包括设置于集成电路板操作台下方的低位除尘装置，相邻 |
| 45 | CN106384721A | 晶圆片边缘处理装置 | 2017.02.08 | 本发明涉及一种晶圆片边缘处理装置，包括清洗池及安装于清洗池上方的清洗腔，所述清洗池中安装有多个驱动滚 |
| 46 | CN106381478A | 晶圆化学气相淀积反应装置的进气结构 | 2017.02.08 | 本发明涉及一种晶圆化学气相淀积反应装置的进气结构，包括腔体，腔体上设有进气端及出气端，所述腔体的内腔 |
| 47 | CN106381479A | 晶圆化学气相淀积反应装置 | 2017.02.08 | 本发明涉及一种晶圆化学气相淀积反应装置，包括腔体，所述腔体中内置有导气管及用于支撑晶圆的支撑架，所述 |
| 48 | CN106371172A | 一种阵列波导光栅 | 2017.02.01 | 本发明公开了一种阵列波导光栅，包括依次连接的输入波导区、输入平板波导区、阵列波导区、输出平板波导区和 |
| 49 | CN106373918A | 带有滑动卡位装置的晶圆夹持装置 | 2017.02.01 | 本发明公开了一种带有滑动卡位装置的晶圆夹持装置，包括主体板；所述主体板为圆形，所述主体板的边缘等间距 |
| 50 | CN106350784A | 双排导气式低压化学气相沉淀腔 | 2017.01.25 | 本发明涉及一种双排导气式低压化学气相沉淀腔，包括腔体，所述腔体中内置有导气管及用于支撑晶圆的支撑结构 |
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